ENTEGRIS過程監(jiān)控器SemiChem APMi 200

以耐用、可靠的在線平臺提供實(shí)驗(yàn)室質(zhì)量測量。Entegris 是設(shè)計(jì)和生產(chǎn)用于半導(dǎo)體制造工藝中的化學(xué)機(jī)械研磨 (CMP) 漿料和配制清洗劑的高精度分析儀器的市場供應(yīng)者。我們的技術(shù)旨在確保復(fù)雜混合化學(xué)藥劑的準(zhǔn)確一致性，并實(shí)現(xiàn) CMP 和配制清洗工藝的高產(chǎn)率。我們的 SemiChem 高等級工藝監(jiān)控器（APM）是一種濕化學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，可自動(dòng)采樣、分析和報(bào)告關(guān)鍵工藝的定量化學(xué)濃度。完整的在線化學(xué)監(jiān)測可實(shí)時(shí)修正槽液成分，從而穩(wěn)定控制工藝條件。該系統(tǒng)可提供化學(xué)濃度數(shù)據(jù)。當(dāng)變化立即顯現(xiàn)時(shí)，可能對產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生負(fù)面影響的變化可以迅速得到糾正，從而幫助滿足零缺陷容忍度和更高產(chǎn)品產(chǎn)量的要求。

提供業(yè)界準(zhǔn)確的監(jiān)測，以保持工藝化學(xué)成分和完整性

在產(chǎn)品質(zhì)量下降之前檢測揮發(fā)性化學(xué)物質(zhì)的工藝偏差

將實(shí)驗(yàn)室技術(shù)轉(zhuǎn)化為工藝，實(shí)現(xiàn)快速準(zhǔn)確的工藝控制

平均故障間隔時(shí)間 (MTBF) > 8500 小時(shí)

提供化學(xué)濃度數(shù)據(jù)，使?jié){料/化學(xué)品分配系統(tǒng)能夠提供準(zhǔn)確的化學(xué)濃度

多個(gè)采樣點(diǎn)、附加 5 毫升數(shù)字滴定管、附加傳感器、聯(lián)鎖、試劑低濃度檢測

產(chǎn)地：美國

分析方法：電位計(jì)法、標(biāo)準(zhǔn)添加法、光度法

電位計(jì)精度：顯示值的± 0.2

標(biāo)準(zhǔn)添加精度：± 2.0 %示值

電位計(jì)精度：± 0.2 % 相對誤差

標(biāo)準(zhǔn)添加精度：± 2.0 % 相對誤差

測量時(shí)間：> 5 分鐘/分析（視應(yīng)用而定）

校準(zhǔn)間隔：啟動(dòng)時(shí)

樣品消耗量：< 5 mL/次分析

樣品量：0.05 至 5 mL（根據(jù)應(yīng)用而定）

樣品溫度：高達(dá) 93 °C (200 °F)

耗水量：< 1000 mL/分析

樣品入口/回流：<207 kPa (30 psi)，0.5 L/min；1/4" 外徑擴(kuò)口接頭，1" FPT 密封接頭

去離子水：138 至 276 kPa (20 至 40 psi)；2.0 L/min；1/4" 外徑擴(kuò)口接頭

CDA：414 至 552 kPa（60 至 80 psi）；1/4 英寸外徑快速接頭

排水口 工藝：3/4 英寸 NPT 重力排水口；櫥柜：1/2 英寸 NPT 重力排水口

電源：110/220 VAC，50/60 Hz，1/0.5 A 現(xiàn)場可切換

排氣：1-7/8" OD @ 17 CFM

用于控制金屬 CMP 濃度、在微電子環(huán)境中的所有濕化學(xué)應(yīng)用中均表現(xiàn)良好，包括：銅、鎢、阻擋層和金屬 CMP、配方清潔、DSP+、濕蝕刻、氮化物蝕刻、PAN 蝕刻、Piranha 蝕刻、高頻、廢水