ENTEGRIS粒度分析儀AccuSizer 7000 SIS

新型 AccuSizer A7000 SIS 系統(tǒng)是用于 USP <788> 測(cè)試的新型儀器。它能提供 10 和 25 μm 的粒度和計(jì)數(shù)數(shù)據(jù)，達(dá)到或超過 USP <788> 的所有要求，并能輕松通過 USP <1788> 中描述的所有系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)化測(cè)試。A7000 SIS 采用獨(dú)特的技術(shù)，每個(gè)組件都是市場(chǎng)上高規(guī)格/性能的，因此具有其他任何液體粒子計(jì)數(shù)器所不具備的功能。A7000 不僅是一款液體顆粒計(jì)數(shù)器，還是一款精度的粒度分析儀。所有系統(tǒng)都由傳感器、脈沖高度分析儀（計(jì)數(shù)器）和用于傳輸樣品通過傳感器的流體技術(shù)組成。流經(jīng)傳感器的顆粒會(huì)散射并遮擋入射激光束。這種光相互作用產(chǎn)生的脈沖與顆粒大小成正比。計(jì)數(shù)器將這些脈沖轉(zhuǎn)換成顆粒大小。執(zhí)行 USP <788> 測(cè)試的科學(xué)家所熟悉的傳統(tǒng)光遮蔽傳感器的粒度下限通常接近 2 μm。LE400 傳感器使用兩個(gè)檢測(cè)器（消光 + 散射），將檢測(cè)范圍擴(kuò)大到 0.5 - 400 μm。1024 通道脈沖高度分析儀可提供高分辨率結(jié)果，因此它不僅僅是一個(gè)計(jì)數(shù)器，還可用作其他任何樣品的粒度分析儀。AccuSizer 軟件可將粒度分布轉(zhuǎn)換為體積分布，因此可將結(jié)果與激光衍射等其他技術(shù)進(jìn)行比較。AccuSizer 軟件是一個(gè)復(fù)雜的軟件包，可自動(dòng)進(jìn)行 USP <788> 測(cè)試，包括通過/未通過標(biāo)準(zhǔn)和驗(yàn)收批準(zhǔn)。

采用單顆粒光學(xué)施膠 (SPOS) 技術(shù)，提供更寬的動(dòng)態(tài)粒度和濃度范圍

可用作污染應(yīng)用中的液體顆粒計(jì)數(shù)器，也可用作粒度分析儀

高靈敏度的技術(shù)，可確定分布尾部，如 CMP 泥漿中的大顆粒計(jì)數(shù) (LPC)、蛋白質(zhì)聚集或乳液尾部 (PFAT5)

快速、多通道脈沖高度分析儀，可報(bào)告多達(dá) 1024 個(gè)粒度分區(qū)的結(jié)果

提供多種流體力學(xué)配置，可直接或通過自動(dòng)稀釋將樣品輸送到傳感器，以避免重合誤差

測(cè)量 0.5 - 400 µm 的尺寸和濃度

測(cè)量后保存樣品

21 CFR 11 管理功能

包括傳感器、計(jì)數(shù)器和采樣系統(tǒng)

自動(dòng)進(jìn)樣器

用于自動(dòng)進(jìn)樣器的磁力攪拌器

用戶或完整 PSS 安裝的 IQ/OQ 文檔

21 CFR 第 11 部分軟件

產(chǎn)地：美國(guó)

傳感器：LE400：準(zhǔn)直光束，散射 + 消光，0.5至400 μm

FX：聚焦光束，高濃度時(shí)消光 0.7至20 μm

FX-Nano：聚焦光束，高濃度時(shí)散射為 0.15至10+ μm

計(jì)數(shù)器：計(jì)數(shù)器可提供多達(dá) 1024 個(gè)大小通道的高分辨率結(jié)果

流體學(xué)：樣品可在不稀釋的情況下通過傳感器，也可使用單級(jí)或雙級(jí)自動(dòng)稀釋采樣器進(jìn)行采樣

原理：?jiǎn)晤w粒光學(xué)施膠（SPOS）用于高分辨率顆粒粒度和濃度（顆粒/毫升）分析。對(duì)顆粒進(jìn)行單獨(dú)計(jì)數(shù)和粒度分析，而非組合方法。

采樣容量：0.5 - 25 mL，1024 個(gè)大小通道，符合 USP <788>。

傳感器：LE400-05

單獨(dú)使用時(shí)：0.5 - 400 μm

光消光和散射，求和校準(zhǔn)，顆粒靈敏度：10 ppt

濃度限制：10,000 顆粒/mL

粒度精度：2 %

計(jì)數(shù)精度：10 %

流速：30 mL/min，但可根據(jù)配置以其他流速進(jìn)行校準(zhǔn)。

樣品：150 μL - 25 mL（或更大，可多次拉動(dòng)注射器）。測(cè)量過程結(jié)束后回收樣品。

電源：100 至 120 VAC，60 Hz 或 220 至 240 VAC，50 Hz

適用于測(cè)量以下產(chǎn)品的粒度和濃度：化學(xué)機(jī)械平坦化 (CMP) 泥漿、過濾器測(cè)試、污染、乳劑、微氣泡、油墨和涂料